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1. WO2005023877 - WATER-ABSORBING RESIN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

Note: Text based on automatic Optical Character Recognition processes. Please use the PDF version for legal matters

[ JA ]

請 求の 範囲

1 . 第一のモノマー成分(ここで、該成分の 1 0モル。 /0以上が、電荷を有する不 飽和モノマーである)を溶媒存在下で重合し架橋することにより第一の網目構造 を形成させる第一工程;

第一の網目構造中に第二のモノマー成分(ここで、該成分の 6 0モル0 以上が、 電気的に中性である不飽和モノマーである)を導入した後、第二のモノマー成分 を溶媒存在下で重合することにより、第一の網目構造中にポリマーを形成させる 工程か、場合により更に架橋することにより、第一の網目構造中に第二の網目構 造を形成させる第二工程(ここで、第二のモノマー成分を重合し架橋する場合に は、第一のモノマー成分を重合し架橋する場合よりも架橋度を小さく設定す る);及び

第二工程で得られた、溶媒を含有する吸水性樹脂を乾燥させる工程

を含む、セミ相互侵入網目構造又は相互侵入網目構造の吸水性樹脂(ここで、該 吸水性樹脂中の第一のモノマー成分量:第二のモノマー成分量が、モル比で 1 :

2〜1 : 1 0 0である)の製造方法。

2 . 電荷を有する不飽和モノマーが、酸性基及び/又は塩基性基を有する不飽和 モノマーである、請求の範囲第 1項記載の製造方法。

3 . 酸性基が、カルボキシル基、リン酸基及ぴスルホン酸基からなる群より選択 される、請求の範囲第 2項記載の製造方法。

4 . 酸性基を有する不飽和モノマーが、 2—アクリルアミドー 2—メチルプロパ ンスルホン酸、アクリル酸、メタクリル酸又はそれらの塩である、請求の範囲第 3項記載の製造方法。

5 . 電気的に中性である不飽和モノマーが、アクリルアミド、 N—イソプロピル ァクリルアミド、ビュルピリジン、スチレン、メチルメタクリレート、フッ素含 有不飽和モノマー(例えば、トリフルォロェチルアタリレート)、ヒドロキシェ チルァクリレート又は酢酸ビュルである、請求の範囲第 1項〜第 4項のいずれか 一項記載の製造方法。

6 . 該樹脂が水と接触すると金属イオンを発生させる金属源を更に含み、かつ、

第一のモノマー成分及ぴ第二のモノマー成分の少なくとも一部が、該金属イオン と錯体を形成しうる基を有するモノマーである、請求の範囲第 1項〜第 5項のい ずれか一項記載の製造方法。

7. 第一のモノマー成分に対して架橋剤を 0. 1〜50mol%の量で用い、第二 のモノマー成分に対して架橋剤を 0. 001〜20mol%の量で用いる、請求の 範囲第 1項〜第 6項のいずれか一項記載の製造方法。

8. 第一工程及び/又は第二工程における重合及び Z又は架橋が、水溶液下で行 われる、請求の範囲第 1項〜第 7項のいずれか一項記載の製造方法。

9. 第三工程で得られた該吸水性樹脂を破砕し篩にかける第四工程を更に含む、 請求の範囲第 1項〜第 8項のいずれか一項記載の製造方法。

10. 該吸収性樹脂が、耐塩性を有する、請求の範囲第 1項〜第 9項のいずれか 一項記載の製造方法。

1 1. 該吸水性樹脂の吸収倍率が、 2〜1000%である、請求の範囲第 1項〜 第 10項のいずれか一項記載の製造方法。

1 2. 該吸収性樹脂が吸水した際に形成されるハイドロゲルの剪断弾性率が、 0. 01〜1 OMPa である、請求の範囲第 1項〜第 1 1項のいずれか一項記載の 製造方法。

13. 該吸収性樹脂が吸水した際に形成されるハイドロゲルの圧縮破断応力が、 0. :!〜 10 OMPa である、請求の範囲第 1項〜第 12項のいずれか一項記載の 製造方法。

14. 該吸収性樹脂が吸水した際に形成されるハイドロゲルの引張破断応力が 0. 1〜10 OMPa である、請求の範囲第 1項〜第 13項のいずれか一項記載の 製造方法。

15. 該吸収性樹脂が吸水した際に形成されるハイドロゲルが、応力分散性を示 す、請求の範囲第 1項〜第 14項のいずれか一項記載の製造方法。

16. 請求の範囲第 1項〜第 15項のいずれか一項記載の製造方法により得られ る吸水性樹脂。

17. 請求の範囲第 16項記載の吸水性樹脂を含む、生理用品、農園芸用、シー ル剤、推進工法用滑剤、地盤掘削における逸泥防止、泥水の固定剤、カーペット 下敷及び農業用被覆剤から選択される物品。